SMV-2019-16: Návrh technologie přípravy a realizace mnohovrstvého EUV systému

0518469 - ÚPT 2020 RIV CZ cze V - Výzkumná zpráva
Fořt, Tomáš
SMV-2019-16: Návrh technologie přípravy a realizace mnohovrstvého EUV systému.
[SMV-2019-16: Deposition technology and implementation of EUV multilayer system.]
Brno: Ústav fyziky plazmatu AV ČR, v. v. i., 2019. 3 s.
Zdroj financování: N - neveřejné zdroje
Klíčová slova: EUV mirror * X-ray mirror * Extreme Ultraviolet mirror
Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)

Návrh technologie přípravy a realizace mnohovrstvých systémů střídajících ve dvojvrstvách hořčík a křemík popřípadě molybden a křemík vytvořené magnetronovým naprašováním tak, aby drsnost rozhraní uvedených vrstev nepřesahovala 0,1 nanometry a reprodukovatelnost tlouštěk dvouvrstev byla lepší než jedna desetina nanometru. Mnohovrstvý systém byl použit jako EUV zrcadlo.

We have developed deposition technology and implementation of multilayer systems of Mg/Si or molybdenum and silicon prepared by magnetron sputtering. Interface roughness has to be smaller than 0.1 nm and reproducibility of bilayer thickness (i.e. molybdenum or Mg and silicon) must be better that 0.1 nm. This multilayer system was used as a EUV mirror.
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0303601