SMV-2019-02: Analýza planárních mikrostruktur vytvářených kombinovaným způsobem zápisu

0518122 - ÚPT 2020 RIV CZ cze V - Výzkumná zpráva
Horáček, Miroslav - Kolařík, Vladimír - Matějka, Milan - Krátký, Stanislav - Chlumská, Jana - Meluzín, Petr - Král, Stanislav
SMV-2019-02: Analýza planárních mikrostruktur vytvářených kombinovaným způsobem zápisu.
[SMV-2019-02: Analysis of planar microstructures prepared by compound writing method.]
Brno: IQS nano s.r.o., 2019. 5 s.
Zdroj financování: N - neveřejné zdroje
Klíčová slova: diffractive optical structures * relief structure * e-beam lithography
Obor OECD: Nano-processes (applications on nano-scale)

Výzkum a vývoj materiálů, technologických postupů a metodiky vytváření planárních mikrostruktur. Příprava a vyhodnocení vlastností tenkých vrstev vhodných pro zápis planárních mikrostruktur, analýza mikrostruktur na elektronovém a konfokálním mikroskopu, příprava masek na litografu pro kombinované expozice, využití dalších technologií – např. UV soukrytovačky masek, RIE a dalších, ověření navržené metodiky, vyhodnocení dosažitelných parametrů, sepsání písemné zprávy.

Research and development of materials, techniques and methodology for planar microstructures preparatio. Preparation and evaluation of a thin layers for planar microstructures making, analysis of microstructures using scanning electron microscopy and confocal microscopy, preparation of the masks for compound exposures by means of electron beam lithography, utiilization of UV mask aligner, RIE, etc., verification of the proposed methodology, evaluation of the final parameters.
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0303303