Počet záznamů: 1
SMV-2019-03: Tenké membrány
- 1.0517208 - ÚPT 2020 RIV CZ cze V - Výzkumná zpráva
Krátký, Stanislav - Matějka, Milan - Chlumská, Jana - Horáček, Miroslav - Kolařík, Vladimír - Meluzín, Petr - Král, Stanislav
SMV-2019-03: Tenké membrány.
[SMV-2019-03: Thin membranes.]
Brno: FEI Czech Republic, 2019. 5 s.
Zdroj financování: N - neveřejné zdroje
Klíčová slova: e-beam lithography * wet etching * plasma etching * reactive ion etching
Obor OECD: Nano-processes (applications on nano-scale)
Vývoj technologie přípravy tenkých nitridových membrán ve velké ploše pro potřeby spektroskopie pomocí pomalých elektronů. Během vývoje se vyzkoušelo několik různých technik pro přípravu tenkých membrán – mokré leptání, reaktivní iontové leptání, plasmatické leptání a nízkofrekvenční plasmatické leptání. Zároveň byla vyvinuta technika nepřímého měření takto tenkých membrán.
The development of technology for preparation of very thin silicon nitride membrane for use in low energy electron spectroscopy. Several techniques for preparation of thin membranes were tested during the development – wet etching, reactive ion etching, plasma etching, low-frequency plasma etching. Comparative method for the measurement of such thin membranes was developer also.
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0302493
Počet záznamů: 1