Přívod plynů do CVD zařízení pro přípravu grafenových podložek

0507953 - ÚPT 2020 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Průcha, Lukáš - Piňos, Jakub - Sýkora, Jiří - Materna Mikmeková, Eliška
Přívod plynů do CVD zařízení pro přípravu grafenových podložek.
[Gas supplies for CVD device for the preparation of graphene based substrates.]
Interní kód: APL-2019-04 ; 2019
Technické parametry: Funkční vzorek se skládá z nerezové trubice, příruby s vývodem, 3 ventilů, 2 průtokoměrů, 2 elektromagnetických zámků, 2 plynových filtrů, tenké ocelové trubičky, kabelů na propojení s PC, 2 plynových bomb a CVD pece.
Ekonomické parametry: Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu s předpokladem smluvního využití s ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Ing. Lukáš Průcha, prucha@isibrno.cz
Grant CEP: GA TA ČR TG03010046
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: gas supplies * methane * hydrogen * CVD * graphene
Obor OECD: Coating and films

Funkční vzorek byl navržen v rámci řešení projektu Podložky na bázi grafenu modifikované elektronovým svazkem pro LV STEM (TAČR GAMA TG03010046) a otestován na CVD grafenu vyráběném pro tento projekt. Přesné a bezpečné dávkování plynů do CVD pece je u přípravy grafenu velmi důležitý parametr. Je nutné zajistit velmi přesné dávkování výbušných a hořlavých plynů. Díky našemu řešení pro dávkování těchto nebezpečných plynů, připevněné k našemu prototypovému CVD reaktoru, jsme schopni dávkovat tyto plyny přímo do CVD reaktoru nejen bezpečně ale i s velkou přesností průtoku. Díky tomu jsme schopni velmi efektivně upravovat vstupní parametry experimenty během grafenového růstu. Navíc je díky našemu návrhu velmi jednoduché a bezpečné používané plyny vyměnit za jiné.

The functional sample was designed within the project Electron beam treated graphene based substrates for LV STEM (TAČR GAMA TG03010046) and tested on CVD graphene produced for this project. Accurate and safe dosing of gases into the CVD furnace is a very important parameter in the preparation of graphene. It is necessary to ensure very accurate dosing of explosive and flammable gases. With our solution for dispensing these hazardous gases attached to our prototype CVD reactor, we are able to dispense these gases directly into the CVD reactor not only safely but also with great precision. As a result, we are able to very efficiently adjust input parameters by experiments during graphene growth. In addition, our design makes it very simple and safe to replace used gases for different ones.
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0298928