Aparatura pro depozici homogenních senzoricky aktivních vrstev metodou plazmové polymerace

0500349 - FZÚ 2019 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Lančok, Ján - Novotný, Michal - More Chevalier, Joris - Fitl, P. - Myslík, V. - Vrňata, M. - Vlček, J. - Bodnár, M.
Aparatura pro depozici homogenních senzoricky aktivních vrstev metodou plazmové polymerace.
[Apparatus for deposition of homogenous sensor active layers by plasma polymerization.]
Interní kód: Aparatura pro depozici homogenních senzoricky aktivních vrstev metodou plazmové polymerace ; 2018
Technické parametry: Pracovní tlak 10E-3Pa, teplota odpařování organického prekurzoru v rozsahu 30 až 600°C, rozměr homogenně pokryté oblasti aktivní vrstvou min 50x50 mm, RF výkon pro rozklad a ionizaci par 5 až 100W.
Ekonomické parametry: Vytvoření nové technologie výroby, zvýšení adaptability produktů, zlepšení postavení firmy na trhu.
Grant CEP: GA MPO FV20350; GA MŠMT(CZ) LO1409
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: chemical gas sensor * plasma polymerization * vacuum evaporation
Obor OECD: Electrical and electronic engineering

Funkční vzorek, aparatura pro depozici homogenních senzoricky aktivních vrstev metodou plazmové polymerace na nerozdělené desky substrátů chemických senzorů, vznikl v rámci spolupráce FZÚ AVČR, VŠCHT a Tesla Blatná na projektu FV20350, Chemirezistory na bázi nanokompozitních vrstev pro detekci plynů. Aparatura se skládá ze skleněné komory osazené duralovými přírubami, rotační olejové a turbomolekulární vývěvy, měrky vakua (Pirani+Penning) s indikátorem procesního tlaku, systému ventilů, RF zdroje pro rozklad organokovových prekurzorů, DC zdroje pro řízení odpařování prekurzorů, odpařovače organických látek s nepřímým ohřevem, závěrky pro řízení depozice a nosiče vzorků. Parametry: prac. tlak 10E-3Pa, teplota odpařování organ. prekurzoru v rozsahu 30 až 600°C, rozměr homogenně pokryté oblasti senzoricky aktivní vrstvou min 50x50 mm, RF energie pro rozklad a ionizaci par prekurzoru nastavitelná od 5 do 100W.

The functional sample, apparatus for deposition of homogenous sensor active layers by plasma polymerization on substrate wafers of chemical gas sensors, was developed in frame of collaboration FZÚ AVČR, VŠCHT a Tesla Blatná within the project FV20350, Chemiresistors Based on Nanocomposite Layers for Gas Detection. Apparatus consists of glass chamber equipped dural flanges, rotatory oil pump, turbomolecular pump, vacuum gauge (Pirani+Penning) with an indicator of process pressure, system of valves, RF source for metalorganic precursors decomposition, DC source for controlling evaporation of precursors, an evaporator organic material with nondirect heating, shutter to control deposition, and substrate holder. Parameters: working pressure 10E-3 Pa, evaporation temperature of organic precursor in range from 30 to 600°C, dimension of homogenously covered area of sensor active layer min.50x50 mm, RF power for decomposition and ionization of precursors vapor adjustable from 5 to 100W.

Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0292439