Počet záznamů: 1
Coordinate interferometric measurement for high-resolution lithography
- 1.0499698 - ÚPT 2019 CZ eng A - Abstrakt
Lazar, Josef
Coordinate interferometric measurement for high-resolution lithography.
Sborník příspěvků multioborové konference LASER58. Brno: Ústav přístrojové techniky AV ČR, 2018 - (Růžička, B.). s. 39. ISBN 978-80-87441-24-4.
[LASER58. 17.10.2018-19.10.2018, Třešť]
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: metrology * interferometry * laser * lithography
Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
Interferometric systém for precise positioning of a coordinate sample stage has been developed for an e-beam litograph. Position measurement is performed in a differential arrangement with referencing to the e-beam nozzle.
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0291919
Počet záznamů: 1