Počet záznamů: 1  

Úprava držáku pro galvanické pokovování mikroelektromechanických systémů.

  1. 1.
    0499076 - ÚPT 2019 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
    Maňka, Tadeáš - Šerý, Mojmír
    Úprava držáku pro galvanické pokovování mikroelektromechanických systémů.
    [Modification of holder for electroplating of microelectromechanical systems.]
    Interní kód: APL-2018-15 ; 2018
    Technické parametry: Funkční vzorek je určen pro galvanické pokovování vodivých vzorků s rozměry 36x36 mm. Většina komponent je vyrobena z ABS plastu na 3D tiskárně. Aparatura je vybavena držákem substrátu sloužícím pro pokovení pouze jedné strany vzorku. Pro připojení elektrického napětí slouží soustava čtyř pružin, které přitlačují vzorek k elektrodě a zajištují tím elektrický kontakt.
    Ekonomické parametry: Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu s předpokladem smluvního využití s ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Ing. Tadeáš Maňka, manka@isibrno.cz
    Grant CEP: GA MŠMT(CZ) LO1212
    Institucionální podpora: RVO:68081731
    Klíčová slova: electroplating holder * electroplating of silicon wafers
    Obor OECD: Mechanical engineering

    Zařízení je určeno pro galvanické pokovování vodivých substrátů. Vzorek se vloží do držáku a ponoří se do chemické lázně, kde je pokoven na požadovanou tloušťku.

    The device is designed for electroplating of conductive substrates. The sample is placed in the holder and immersed in a chemical bath where it is deposited to the desired thickness.
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0291359

     
     
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.