Zajištění plošné homogenity při depozici složitých systémů vrstev

0494421 - ÚFP 2019 RIV CZ cze V - Výzkumná zpráva
Žídek, Karel
Zajištění plošné homogenity při depozici složitých systémů vrstev.
[Attaining surface homogeneity in the deposition of complex layer systems.]
CSL – Centre Spatial de Liège University of Liege, 2018. 7 s.
Grant CEP: GA MŠMT(CZ) LO1206
Institucionální podpora: RVO:61389021
Klíčová slova: thin layer deposition * deposition mask * surface homogeneity
Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)

V této zprávě popisujeme postup optimalizace depozice interferenčního filtru s cílem dosáhnout homogenní tloušťky vrstvy na co největším rozsahu deponované plochy. Za použití depoziční masky a rotace depoziční kaloty dosahujeme homogenity ± 0.5% pro vzorky do průměru 5 cm. Zkoumáme poté vliv naklonění substrátu a depozici na zakřivený povrch čočky na homogenitu deponované vrstvy.

We report on a procedure of optimization of a thin-film deposition process with respect to the best attainable layer homogeneity on a large deposited surface. By using a deposition mask and rotation of the deposition calotte, we reach the homogeneity of ± 0.5% for samples with the diameter up to 5 cm. Furthermore, we investigate the effect of substrate tilt and of a deposition on a curved lens surface with respect to homogeneity of the deposited layer.
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0287991