Stabilita optického monitoru při depozici 42-vrstvého interferenčního „bandpass“ filtru 520-590 nm

0494420 - ÚFP 2019 RIV CZ cze V - Výzkumná zpráva
Žídek, Karel
Stabilita optického monitoru při depozici 42-vrstvého interferenčního „bandpass“ filtru 520-590 nm.
[Stability of an optical monitor for deposition of 42-layer interference bandpass filter 520-590 nm.]
Turnov: CSL – Centre Spatial de Liège University of Liege, 2018. 7 s.
Grant CEP: GA MŠMT(CZ) LO1206
Institucionální podpora: RVO:61389021
Klíčová slova: thin layer deposition * thickness monitor * interference filter * deposition stability
Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)

V této zprávě popisujeme stabilitu depozice komplikovaných soustav tenkých vrstev, které byly navrženy jako interferenční filtr s pásmovou propustností. Jde o 42 vrstev TiO2 a SiO2, které jsou monitorovány jednak tzv. krystalovým a optickým monitorem tloušťky. Diskutujeme případ, kdy je návrh IF průběžně upravován podle reálné tloušťky deponovaných vrstev.

We report on stability of a deposition process of a complex system of thin layers. The layers were designed as a 42-layer bandpass interference filter. The layers of TiO2 and SiO2 were monitored both by the means of a crystal and an optical thickness monitor. We discuss the case when the design of the interference filter is continuously adapted according to the real thickness of the already deposited layers.
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0287992