Laserová deposice titanosilikátových povlaků na porézní titanové povrchy – vytváření Ti-Si porézních povrchů z práškových materiálů.

0470092 - ÚCHP 2017 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Jandová, Věra - Pola, Josef - Křenek, T. - Pola, M. - Němeček, S. - Kašparová, A.
Laserová deposice titanosilikátových povlaků na porézní titanové povrchy – vytváření Ti-Si porézních povrchů z práškových materiálů.
[Titanium-silicate Laser Deposition Coatings on Titanium Porous Surfaces - Creating Si/Ti-Porous Surfaces from Powder Materials.]
Interní kód: laserová ablativní deposice ; 2016
Technické parametry: Rozhodnutí zařadit do programu projektu tuto část výzkumu bylo však především motivováno našimi novými a dosud nepublikovanými výsledky o konvenčním záhřevu směsi TiO-SiO, ze kterých vyplynulo, že v systému SiO-TiO probíhají v pevné fázi při 1000 oC strukturní změny (tvorba krystalických Ti2.5O3, Ti2O3, elementárního křemíku a intermetalika Ti5Si3) v důsledku disproporcionace SiO a difuzně řízených redox reakcí mezi TiO a SiO. Tyto změny byly prokázány XRD analýzou (obr. 1), IČ a Raman spektroskopií (obr. 2) identifikujícími výskyt SiOx (x>1) a elementárního Si a také jsou ilustrovány elementárním mapováním SEM (obr. 3) a dale I EDX -SEM analýzou mikročástic - Ti/Si atomární poměr světle modrých částic (2,7-1,6) a světle červených částic (0,1-0,3).
Ekonomické parametry: Funkční vzorky budou dále optimalizovány a testovány ve čtvrtém roce řešení projektu ve společnosti Prospon, s.r.o., Kladno. která je významným výrobcem implantátů a protetik v ČR.
Grant CEP: GA TA ČR TA04010169
Klíčová slova: ablation * laser deposition * porous layers
Kód oboru RIV: CF - Fyzikální chemie a teoretická chemie

V návaznosti na předchozí činnost (deposice TiOx a SiOx nanostruktur) byla v UCHP a ZČU provedena TEA CO2 a Nd:YAG laserová ablativní deposice směsi TiO a SiO, protože takový postup by mohl zkrátit dobu potřebnou na vytváření katalytických center původně plánovanými odděleně probíhajícími deposicemi TiO a SiO. Výsledky prokazují, že ablativní deposice z ekvimolární TiO-SiO směsi účinkem laseru vede k tvorbě filmů bohatých na frakci SiO, ve které je obsah TiO jen několik procent. Účinkem záření ArF laseru však dochází ke kongruentní deposici SiO-TiO filmu.

In relation to previous work (deposition of SiOx and TiOx nanostructures), TEA CO2 and Nd:YAG laser ablation deposition of mixture of TiO and SiO was performed in UCHP and ZČU, because such a procedure could reduce the time required to create catalytic centers originally planned for separately ongoing deposition of TiO and SiO. The results show that ablative deposition of an equimolar mixture of TiO and SiO results in the formation of films rich in SiO fraction, in which the content of TiO is only a few percent. However, there is a congruent deposition of SiO-TiO film by ArF laser radiation effect.
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0267834