Zařízení k řízení depozice tenkých vrstev ve vakuovém vícetryskovém plazmovém systému

0466215 - FZÚ 2017 RIV cze P1 - Užitný vzor, průmyslový vzor
Olejníček, Jiří - Šmíd, Jiří - Hubička, Zdeněk - Adámek, Petr - Čada, Martin - Kment, Štěpán
Zařízení k řízení depozice tenkých vrstev ve vakuovém vícetryskovém plazmovém systému.
[Device to control deposition of thin layers in vacuum multijet plasma system.]
2016. Vlastník: Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. Datum udělení vzoru: 15.11.2016. Číslo vzoru: 30018
Grant CEP: GA TA ČR(CZ) TF01000084
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: plasma jet * thin films * hollow cathode * sputtering
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
https://isdv.upv.cz/doc/FullFiles/UtilityModels/FullDocuments/FDUM0030/uv030018.pdf

Technické řešení spadá do oblasti aplikace technologických postupů při vytváření tenkých vrstev, zejména čistých kovů, jejich oxidů, nitridů či dalších sloučenin, na povrchu substrátu a týká se zařízení k řízení depozice tenkých vrstev ve vakuovém vícetryskovém plazmovém systému při využití plazmochemických reakcí v aktivní zóně generovaného výboje. Řešení je uzpůsobeno zejména ve spojení s uplatněním technologií plazmové trysky pracující na principu výboje v duté katodě hořící v režimu HCA (Hollow Cathode Arc).

Technical solution belongs to area of application of technological processes for deposition of thin films, namely pure metals, their oxides, nitrides or other compounds on the substrate surface and is focused on device for controlling the deposition of thin films by vacuum multi-plasma-jet system using plasma chemical reactions in the active zone of generated discharge. Solution is adapted particularly in connection with the technology of the plasma jet working on the principle of hollow cathode discharge burning in HCA regime(Hollow Cathode Arc).
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0264578