Opticky variabilní obrazové zařízení cas 1

0464662 - ÚPT 2017 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Kolařík, Vladimír - Horáček, Miroslav - Král, Stanislav - Urbánek, Michal - Matějka, Milan - Krátký, Stanislav - Chlumská, Jana - Meluzín, Petr
Opticky variabilní obrazové zařízení cas 1.
[Optically variable image device.]
Interní kód: APL-2016-01 ; 2016
Technické parametry: Zařízení má velikost 33 mm x 33 mm. Středová oblast průměru 20 mm obsahuje difrakční vrypy délky 571 metrů. Podkladová oblast s UV mřížkou obsahuje vrypy délky 2,5 km. Při konstrukci je dále použito 9 zonálních prvků, 5 holografických prvků a jeden zajišťovací mikro grafický prvek.
Ekonomické parametry: Repliky funkčního vzorku realizovaného při řešení grantů jsou využívány příjemcem.Kontakt: doc. Ing. Vladimír Kolařík, Ph.D., kolariq@isibrno.cz
Grant CEP: GA MŠMT(CZ) LO1212
Klíčová slova: e-beam lithography * planar microstructure * diffractive device
Kód oboru RIV: JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika

Funkční vzorek opticky variabilního obrazového zařízení se skládá z několika optických prvků, každý z nich je tvořen řadou optických elementů, například difrakčních mřížek, počítačem generovaných hologramů nebo zonálních struktur. Tyto prvky jsou realizovány jako reliéfní planární struktura ohýbající odražené zpravidla bílé světlo do různých vertikálních a azimutálních směrů, a vytvářející požadovaný vizuální vjem. Zařízení bylo realizováno expozicí na elektronovém litografu s Gaussovským svazkem typu Vistec EBPG5000plusES a následnými operacemi elektronové litografie. Funkční vzorek byl následně reprodukován galvanickými a lisovacími technikami.

Functional sample of an optically variable image device consists of several optical elements, each of which is formed by a series of optical primitives, for example diffraction gratings, computer generated holograms or zonal structures. These elements are realized as a planar relief structure diffracting the reflected generally white light into different vertical and azimuth directions, and creating the desired visual perception. The device was realized by exposure on the electron beam pattern generator with Gaussian beam brand Vistec EBPG5000plusES and by related operations of electron beam lithography. Functional sample was subsequently reproduced by electroplating and embossing techniques.
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0265190