Vysokofrekvenční aparatura pro měření parametrů plazmatu s využitím vlnové rezonance elektronové cyklotronové vlny

0462264 - FZÚ 2017 RIV cze P1 - Užitný vzor, průmyslový vzor
Hubička, Zdeněk - Čada, Martin - Kment, Štěpán - Olejníček, Jiří - Adámek, Petr - Straňák, Vítězslav
Vysokofrekvenční aparatura pro měření parametrů plazmatu s využitím vlnové rezonance elektronové cyklotronové vlny.
[Radio-frequency apparatus for measuring plasma parameters by making use of wave resonance of electron cyclotron wave.]
2016. Vlastník: Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. Datum udělení vzoru: 07.06.2016. Číslo vzoru: 29519
Grant CEP: GA TA ČR TA03010743
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: ECWR * low-temprature plasma * thin film * plasma density * plasma deposition
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
https://isdv.upv.cz/doc/FullFiles/UtilityModels/FullDocuments/FDUM0029/uv029519.pdf

Předkládaným technickým řešením se dosahuje nového a vyššího účinku v tom, že popsaným způsobem měření s využitím znázorněné aparatury je možné pomocí identifikace vlnové ECWR rezonance výhradně určit v měřícím prostoru páskového závitu parametry depozičního plazmatu, a to zejména koncentraci elektronů

Present technical solution brings a new and higher effect, that described measurement using the apparatus shown it is possible by identifying the resonance wavelength ECWR exclusively in the measuring chamber to determine in the tape thread depositing plasma parameters, especially the concentration of electrons.
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0261744