Amplitudově fázová vortexová maska

0449277 - ÚPT 2016 RIV CZ cze C - Konferenční příspěvek (zahraniční konf.)
Krátký, Stanislav - Meluzín, Petr - Urbánek, Michal - Matějka, Milan - Chlumská, Jana - Horáček, Miroslav - Kolařík, Vladimír
Amplitudově fázová vortexová maska.
[An Amplitude-Phase Vortex Photo Mask.]
Sborník příspěvků multioborové konference LASER 55. Brno: Ústav přístrojové techniky AV ČR, 2015, s. 32-33. ISBN 978-80-87441-16-9.
[LASER 55. Třešť (CZ), 21.10.2015-23.10.2015]
Grant CEP: GA MŠMT(CZ) LO1212; GA MŠMT ED0017/01/01; GA TA ČR TE01020233
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: photo mask * vortex beam * e-beam lithography
Kód oboru RIV: JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika

Problematiku fázových masek jsme prezentovali již na předchozích ročnících této konference: počítačem generované hologramy a fázové masky pro přípravu vláken s Braggovými mřížkami. V tomto příspěvku se zaměříme na prezentaci výsledků dosažených při přípravě skleněné masky pomocí elektronové litografie, která na jedné podložce kombinuje dvě části; amplitudovou část a fázovou část vortexové masky. Obě dvě části jsou připraveny elektronovou litografií. Popis funkčních optických vlastností realizované masky by byl značně nad rámec tohoto příspěvku, a proto se připravuje k samostatné publikaci.

The issue of phase photo masks was presented in previous editions of this conference: computer-generated holograms and phase masks to produce fiber Bragg gratings. In this contribution, we will focus on the presentation of results achieved in the preparation of glass masks combining two parts on one substrate: the amplitude portion and the phase portion of a vortex photo mask. Both portions are prepared by electron-beam lithography.
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0251045