Počet záznamů: 1  

Souřadnicový interferometrický systém pro odměřování polohy vzorku elektronového litografu

  1. 1.
    0449271 - ÚPT 2016 RIV CZ cze C - Konferenční příspěvek (zahraniční konf.)
    Holá, Miroslava - Lazar, Josef - Čížek, Martin - Řeřucha, Šimon - Číp, Ondřej
    Souřadnicový interferometrický systém pro odměřování polohy vzorku elektronového litografu.
    [Coordinate interferometric system for measuring the position of a sample of the electron lithograph.]
    Sborník příspěvků multioborové konference LASER 55. Brno: Ústav přístrojové techniky AV ČR, 2015, s. 16-17. ISBN 978-80-87441-16-9.
    [LASER 55. Třešť (CZ), 21.10.2015-23.10.2015]
    Grant CEP: GA ČR GB14-36681G; GA TA ČR TA02010711; GA TA ČR TA01010995; GA TA ČR TE01020233; GA MŠMT(CZ) LO1212; GA MŠMT ED0017/01/01
    Institucionální podpora: RVO:68081731
    Klíčová slova: coherence optics * interferometry * coherent laser
    Kód oboru RIV: BH - Optika, masery a lasery

    Tento projekt se nazývá „Platforma pokročilých mikroskopických a spektroskopických technik pro nano a mikrotechnologie“. Řešitelem tohoto projektu je Vysoké učení technické v Brně/Fakulta strojního inženýrství a spoluřešitelé jsou ON Semiconductor Czech republic, s.r.o., Optaglio s.r.o., Tescan Brno, s.r.o. a Ústav přístrojové techniky AVČR, v.v.i.. V rámci tohoto projektu pracujeme na návrhu interferometrického odměřovacího systému, laserového zdroje a detekční techniky pro souřadnicové odměřování stolu elektronového litografu.

    This project is called "Platform of advanced microscopic and spectroscopic techniques for nano and microtechnology." The coordinator of this project is the Brno University of Technology / Faculty of Mechanical Engineering and the co-investigators are ON Semiconductor Czech Republic, Ltd., Optaglio Ltd., Tescan Brno, Ltd. And the Institute of Scientific Instruments of the CAS, v. v. i.. In this project we are working on a design of an interferometric measuring system, laser source and detection techniques for a coordinate measuring system of the table of the electron beam lithography.
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0250860

     
     
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.