Multifunkční držák substrátu pro plazmové depozice tenkých optických vrstev

0436748 - FZÚ 2015 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Hubička, Zdeněk - Čada, Martin - Adámek, Petr
Multifunkční držák substrátu pro plazmové depozice tenkých optických vrstev.
[Multifunctional substrate holder for plasma depositions of optical thin films.]
Interní kód: MFSH2014 ; 2014
Technické parametry: Rotační rychlost: 0-200 RPM; vakuová těsnost: 1x10-10 mbar l s-1; maximální dosažená teplota: 400 °C; maximální příkon vytápění: 180 W; maximální amplituda RF předpětí při frekvenci 13.56 MHz: 1000 V
Ekonomické parametry: Laboratorní zařízení nezbytné pro další aplikovaný výzkum
Grant CEP: GA TA ČR TA01010517
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: sputtering * thin films * plasma * deposition * magnetron * reactive sputtering
Kód oboru RIV: BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech

V rámci řešení grantu TAČR byl vyvinut otáčivý nosič substrátu pro plazmovou depozici, který je externě vytápěný do teploty 400 °C a je možné na něj aplikovat RF předpětí do hodnot amplitudy 1000 V.

A rotating substrate holder was developed for plasmatic deposition system as an output of the project TACR. The substrate holder can be heated up to 400 oC and simultaneously biased by the RF voltage up to the amplitude value of 1000 V.
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0240432