Způsob měření iontové distribuční funkce v nízkoteplotním plazmatu, měřicí systém pro provádění tohoto způsobu a sonda pro měřicí systém

0429387 - FZÚ 2015 RIV cze P - Patentový dokument
Adámek, Petr - Čada, Martin - Hubička, Zdeněk - Jastrabík, Lubomír - Adámek, Jiří - Stöckel, Jan
Způsob měření iontové distribuční funkce v nízkoteplotním plazmatu, měřicí systém pro provádění tohoto způsobu a sonda pro měřicí systém.
[A method for measuring the ion distribution function in a low temperature plasma, a measuring system for implementing the method and the probe for measuring system.]
2014. Vlastník: Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i - Ústav fyziky plazmatu AV ČR, v. v. i. Datum udělení patentu: 16.04.2014. Číslo patentu: 304493
Grant CEP: GA TA ČR TA01010517
Institucionální podpora: RVO:68378271 ; RVO:61389021
Klíčová slova: Katsumata probe * ion flux * ion energy distribution function * magnetic field
Kód oboru RIV: BH - Optika, masery a lasery
http://isdv.upv.cz/portal/pls/portal/portlets.pts.det?xprim=1760204&lan=cs

Způsob měření iontové distribuční funkce v nízkoteplotním plazmatu diagnostikovaného plazmového objektu v měřícím systému aplikovaném na plazmochemický reaktor, který je vybaven napájecím zdrojem napojeným na výbojovou elektrodu a referenční elektrodu. Podstata vynálezu spočívá v tom, že po primárním nastavení parametrů měřicího systému pomocí proudových hodnot zdroje referenčního napětí je na sběrné elektrodě snímána volt-ampérová charakteristika iontové složky proudu vzniklého napájením výbojů a procházejícího obvodem: plazmatický objekt – sběrná elektroda – proudový převodník - zdroj referenčního napětí – referenční elektroda, z níž je vyhodnocením v řídicí a měřicí jednotce stanovena iontová distribuční funkce plazmového zdroje. Dále je podstatou vynálezu měřící systém pro provádění tohoto způsobu a konstrukce sondy pro tento měřící systém.

A method for measuring the ion distribution function in a low temperature plasma diagnosed plasma object in the measuring system applied to the plasma chemical reactor, which is equipped with a power source connected to the discharge electrode and a reference electrode. Summary of the invention consists in the fact that after the primary parameters measuring system using current values of the reference voltage source is sensed on the collecting electrode volt -ampere characteristics of the ion current component generated power and discharges through the circuits: plasma object - a collecting electrode - current converter - voltage reference - the reference electrode from which the evaluation of the control and measuring unit fixed ion distribution function of the plasma source. Furthermore, the present invention provides a measuring system for implementing the method and structure of the probe for this measurement system.
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0234521