Počet záznamů: 1
Mass spectrometry of plasma processes during reactive DC pulsedmagnetron sputtering
- 1.0338238 - FZÚ 2010 DE eng A - Abstrakt
Bulíř, Jiří - Pokorný, Petr - Novotný, Michal - Mišina, Martin - Lančok, Ján - Musil Jr., Jindřich
Mass spectrometry of plasma processes during reactive DC pulsedmagnetron sputtering.
[Hmotnostní spektroskopie plazmatických procesů při DC pulzním reaktivním magnetronovém naprašování.]
PSE 2008 - Abstracts. Dresden: European Joint Committee on Plasma and Ion Surface Engineering, 2009. s. 408.
[International Conference on Plasma Surface Engineering /11./. 15.09.2008-19.09.2008, Garmisch Partenkirchen]
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z10100522
Klíčová slova: magnetron sputtering * mass spectroscopy * alumina
Kód oboru RIV: BH - Optika, masery a lasery
Analysis of plasma in pulse reactive magnetron sputtering system by mass spectroscopy. Target voltage controlled satbilization of the magnetron discharge in a transition mode. Understanding of sputtering mechanism in transition sputtering mode. Deposition and analysis of alumina coatings in transition sputtering mode.
Analýza plazmatu při pulsním reaktivním magnetronovém naprašování pomocí hmotnostní spektroskopie. Stabilizace magnetronového výboje v přechodovém módu pomocí napětí. Popis mechanismů naprašování v přechodovém módu, příprava a studium vlastností Al2O3 vrstev.
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0182070
Počet záznamů: 1