Počet záznamů: 1  

Elektronová litografie

  1. 1.
    0336864 - ÚPT 2010 RIV CZ cze J - Článek v odborném periodiku
    Matějka, František
    Elektronová litografie.
    [E-Beam Lithography.]
    Zpravodaj ČVS. Roč. 16, č. 1 (2008), s. 25-34. ISSN 1213-2705
    Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z20650511
    Klíčová slova: e-beam lithography * resist proceses
    Kód oboru RIV: JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika

    Práce se zabývá fyzikální a fyzikálně chemickou podstatou elektronové litografie při přímém působení svazku urychlených elektronů na rezist. Uváděny jsou také prakticky užívané principy technologie zobrazování v rezistu.

    Physical and chemical fundamental theory of the direct e-beam lithography - interaction of the high energy elctron beam with the leyer of the resist. Practital technological principles of the resist proceses.
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0181000

     
     
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.