Počet záznamů: 1
Elektronová litografie
- 1.0336864 - ÚPT 2010 RIV CZ cze J - Článek v odborném periodiku
Matějka, František
Elektronová litografie.
[E-Beam Lithography.]
Zpravodaj ČVS. Roč. 16, č. 1 (2008), s. 25-34. ISSN 1213-2705
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z20650511
Klíčová slova: e-beam lithography * resist proceses
Kód oboru RIV: JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika
Práce se zabývá fyzikální a fyzikálně chemickou podstatou elektronové litografie při přímém působení svazku urychlených elektronů na rezist. Uváděny jsou také prakticky užívané principy technologie zobrazování v rezistu.
Physical and chemical fundamental theory of the direct e-beam lithography - interaction of the high energy elctron beam with the leyer of the resist. Practital technological principles of the resist proceses.
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0181000
Počet záznamů: 1