Roční zpráva o řešení projektu MPO FR-TI1/574: Optimalizace výrobních postupů v elektronové litografií

0336662 - ÚPT 2010 RIV CZ cze V - Výzkumná zpráva
Polívka, L. - Kolařík, Vladimír - Mikšík, P.
Roční zpráva o řešení projektu MPO FR-TI1/574: Optimalizace výrobních postupů v elektronové litografií.
[Annual report, project MPO FR-TI1/574: Optimization of production flow in electron-beam lithography and mastering.]
Řež u Prahy: Ministerstvo průmyslu a obchodu ČR, 2010. 116 s.
Grant CEP: GA MPO FR-TI1/574
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z20650511
Klíčová slova: electron beam lithography * shaped electron beam
Kód oboru RIV: JP - Průmyslové procesy a zpracování

Elektronový litograf BS600 je elektronově-optické zařízení s tvarovaným svazkem vyvinuté a optimalizované pro výrobu reliéfních mikrostruktur se submikronovým rozlišením. Cílem etapy projektu bylo rozšíření již dříve vyvíjeného expozičního režimu se zmenšeným svazkem tak, aby byl tento režim využitelný pro realizaci difraktivních struktur do celkové velikosti 30 mm x 30 mm. Tohoto cíle bylo dosaženo, jak popisuje předkládaná zpráva.

The e-beam writer BS600 is an electron-optical system with a shaped electron beam which was developed and optimized for production of relief microstructures with a sub-micron resolution. The goal of this project period is defined as follows: the extension of previously developed experimental exposure regime with a reduced stamp size should be extended to the production stage such that diffractive structures up to the size of 3 mm x 3 mm could be prepared. The goal was achieved; the results are summarized in this report.
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0180850