Technologie zápisu elektronovým svazkem proměnné velikosti 66 - 2100 nm

0336589 - ÚPT 2010 RIV CZ cze Z - Poloprovoz, ověřená technologie, odrůda/plemeno
Kolařík, Vladimír - Matějka, František - Horáček, Miroslav - Lencová, Bohumila - Matějka, Milan - Král, Stanislav - Urbánek, Michal - Mikšík, P. - Vašina, J. - Horák, R.
Technologie zápisu elektronovým svazkem proměnné velikosti 66 - 2100 nm.
[E-Beam Writing Technology with Variable Beam Size of 66 - 2100 nm.]
Interní kód: 162 410 ; 2009
Technické parametry: Proudová hustota ve svazku (min – střed - max): 1,8 – 3,6 – 14,4 A/cm2. Otočení souřadnic tvarování, vychylování a posuvu substrátu: -45 stupňů.
Ekonomické parametry: Desetkrát vyšší proudová hustota umožňuje zvýšit základní expoziční dobu až desetkrát, což má přímý vliv na produktivitu. Zmenšení velikosti svazku umožňuje dosáhnout vyššího rozlišení, což umožňuje realizovat struktury dříve nerealizovatelné.
Grant CEP: GA MPO FR-TI1/576
Klíčová slova: electron beam lithography * shaped electron beam
Kód oboru RIV: JP - Průmyslové procesy a zpracování

Realizace technologie zápisu elektronovým svazkem obdélníkového tvaru proměnné velikosti, nastavitelné nezávisle v každém směru v rozsahu 66-2100 nm s krokem 33 nm.

Implementation of electron beam writing technology with a shaped rectangular electron beam of variable size, the beam size being adjusted independently in both axes in the range 66-2100 nm with the step of 33 nm.
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0180792