Comparative study of electrical properties of nano to polycrystalline diamond films

0319787 - FZÚ 2009 RIV GB eng J - Článek v odborném periodiku
Vojs, M. - Kromka, Alexander - Ižák, T. - Škriniarová, J. - Novotný, I. - Valent, P. - Michalka, M. - Kováčik, T. - Veselý, M.
Comparative study of electrical properties of nano to polycrystalline diamond films.
[Studium elektrických vlastnosti nano a polykrystalických vrstev diamantu.]
Journal of Physics: Conference Series. Roč. 100, č. 5 (2008), 052097/1-052097/4. ISSN 1742-6588. E-ISSN 1742-6596
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z10100521
Klíčová slova: microwave plasma CVD * hot filament CVD * electrical measurements
Kód oboru RIV: BM - Fyzika pevných látek a magnetismus

Diamond films were grown by Microwave Plasma (MP) and Hot Filament chemical Vapor Deposition (HF CVD) on Si substrates. The dependence of electrical properties on the film morphology was studied. The surface morphology of grown layers was analyzed by scanning electron microscopy. The different crystallographic character of diamond layers, i.e. either polycrystalline or nanocrystalline, was achieved by using different deposition conditions. Lower-quality diamond films were less sensitive to variation in the operating conditions. The film break-down voltage and other electrical parameters strongly depend on the morphological character, the grain size and defects in layers.

Diamantové vrstvy byli deponováni na Si substráty v mikrovlnném plazmatu a technikou žhaveného vlákna. Vliv morfologie na elektrické vlastnosti byl studován elektrickými měřeními. Rozdílná morfologie vrstev, tj. její polykrystalický nebo nanokrystalický charakter, byla dosažena vhodnou volbou procesních parametrů. Průrazné napětí a elektrické vlastnosti diamantových vrstev záviseli na morfologii vrstvy, tj. velikosti zrn a přítomných defektu.
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0168849