0319767 - FZÚ 2009 RIV DE eng J - Článek v odborném periodiku
Nečas, D. - Peřina, Vratislav - Franta, D. - Ohlídal, I. - Zemek, Josef
Optical characterization of non-stoichiometric silicon nitride films.
[Optická charakterizace vrstev nestechiometrického nitridu křemíku.]
Physica Status Solidi C. Roč. 5, č. 5 (2008), s. 1320-1323. ISSN 1862-6351
Grant ostatní: GA MPO(CZ) FT-TA3/142
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z10100521; CEZ:AV0Z10480505
Klíčová slova: silicon nitride * spectroscopic ellipsometry * RBS
Kód oboru RIV: BM - Fyzika pevných látek a magnetismus

Characterization of non-stoichiometric silicon nitride films prepared by PECVD are performed using spectroscopic ellipsometry and RBS.

Vrstvy nestechiometrického nitridu křemíku připravené metodou PECVD jsou charakterizovené spektroskopickou elipsometrií a RBS.
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0168835