Local probe microscopy with interferometric monitoring of the stage nanopositioning

0316647 - ÚPT 2009 IT eng A - Abstrakt
Lazar, Josef - Klapetek, P. - Číp, Ondřej - Čížek, Martin - Šerý, Mojmír
Local probe microscopy with interferometric monitoring of the stage nanopositioning.
[Mikroskopie s lokální sondou s interferometrickým měřením polohy vzorku.]
NanoScale 2008 - 8th Seminar on Quantitative Microscopy (QM) and 4th Seminar on Nanoscale Calibration Standards and Methods. Torino: Istituto Nazionale di Ricerca Metrologica, 2008. s. 20. ISBN N.
[NanoScale 2008. 22.09.2008-23.09.2008, Torino]
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z20650511
Klíčová slova: interferometry * local probe microscopy * nanometrology
Kód oboru RIV: BH - Optika, masery a lasery

We present nanopositioning stage embedded in a frame with six-axes interferometric system supplied from a stabilized single-frequency frequency doubled 532 nm Nd:YAG laser. Low noise and high output power of the laser source ensure good noise performance of the interferometric detection chain. Multipass interferometers, shorter wavelength compared to the traditional 633 nm He-Ne laser and advanced signal processing and scale linearization results in significant improvement of resolution and overall precision compared to the stage controlled only through capacitive sensors.

Prezentujeme nanopolohovací stolek umístěný v rámu s šestiosým interferometrickým systémem napájeným stabilizovaným jednofrekvenčním Nd:YAG laserem se zdvojnásobením optické frekvence pracujícího na vlnové délce 532 nm. Díky nízkému šumu a velkému výstupnímu výkonu laserového zdroje je dosaženo dobrých šumových vlastností detekce interferenčního signálu. Víceprůchodové interferometry, kratší vlnová délka ve srovnání s tradičním 633 nm He-Ne laserem a pokročilé číslicové zpracování signálu s linearizací interpolace interferenčního proužku představuje významné zlepšení rozlišení a celkové přesnosti ve srovnání se stolkem řízeným jen kapacitními snímači.
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0166505