Study of Thermal Stability of Silicon, Oxygen and/or Nitrogen Containing Diamond-like Carbon Coatings

0315704 - ÚPT 2009 RIV TW eng C - Konferenční příspěvek (zahraniční konf.)
Buršíková, V. - Sťahel, P. - Sobota, Jaroslav - Grossman, Jan - Fořt, Tomáš - Bochníček, Z. - Klapetek, P. - Buršík, Jiří - Peřina, Vratislav
Study of Thermal Stability of Silicon, Oxygen and/or Nitrogen Containing Diamond-like Carbon Coatings.
[Studium termálně stabilních DLC povlaků dotovaných křemíkem, kyslíkem nebo dusíkem.]
2nd Conference on New Diamond and Nano Carbons - NDNC 2008. Taipei: IAMS Academia Sinica, 2008, s. 321. ISBN N.
[New Diamond and Nano Carbons /2./ - NDNC 2008. Taipei (TW), 26.05.2008-29.05.2008]
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z20650511; CEZ:AV0Z20410507; CEZ:AV0Z10480505
Klíčová slova: DLC * thermal stability * PACVD
Kód oboru RIV: JI - Kompozitní materiály

The objective of the present work was to modify DLC films with the aim to decrease their high internal compressive stresses and to increase their low thermal stability. The modified DLC films were prepared using low pressure RF capacitive discharges from mixtures of CH4 and H2 or N2 with a small admixture of hexamethyldisiloxane (Si2OC6H18) or hexamethyldisilazane (Si2NC6H19). The thermal stability of the films was studied using thermal desorption spectroscopy (TDS).

Cílem prezentované práce je modifikace DLC povlaků vedoucí k poklesu jejich vnitřních tlakových napětí a k růstu jejich teplotní stability. Modifikované DLC povlaky byly připraveny v nízkotlakém vysokofrekvenčním kapacitním výboji ze směsi CH4 a H2 nebo N2 s malým přídavkem hexamethyldisiloxanu (Si2OC6H18) nebo hexamethyldisilazanu (Si2NC6H19). Tepelná stabilita povlaků byla studována použitím tepelné desorpční spektroskopie.
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0004891