Zápis tvarovaným elektronovým svazkem

0314356 - ÚPT 2009 RIV CZ cze J - Článek v odborném periodiku
Kolařík, Vladimír - Matějka, František - Lencová, Bohumila - Kokrhel, Svatopluk - Horáček, Miroslav - Radlička, Tomáš - Urbánek, Michal - Daněk, Lukáš
Zápis tvarovaným elektronovým svazkem.
[Writing System with Shaped Electron Beam.]
Jemná mechanika a optika. Roč. 53, č. 1 (2008), s. 11-16. ISSN 0447-6441
Grant CEP: GA ČR GA102/05/2325
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z20650511
Klíčová slova: e-beam writing system * shaped electron beam * electron optics column * electron scattering * writing speed
Kód oboru RIV: JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika

Článek popisuje úpravu původního elektronového litografu BS 600 pracujícího s urychlovacím napětím 15 kV, který prošel v posledních letech výraznou rekonstrukcí. Základní požadavky jsou kladeny na zlepšení rozlišení a zvýšení expoziční rychlosti. Kromě vlastností a dosažených parametrů jsou uvedeny rovněž příklady struktur vytvořených pomocí tohoto systému. Litograf je využíván pro přípravu masek, přímou litografii i realizaci reliéfních struktur. Pro kontrolu realizovaných struktur byl použit mikroskop s rastrující sondou a rastrovací elektronový mikroskop.

The paper describes an improvement of electron beam lithograph BS 600 working with a fixed accelerating voltage of 15 kV and a rectangular shape variable size electron beam. The system has undertaken an important upgrade during last few years. Main goal was to increase the resolution and the writing speed. Achieved parameters and characteristics of the system are described as well as few examples of prepared structures.
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0164886