Measuring the ion flux to the deposition substrate in the hollow Cathode plasma jet

0308119 - FZÚ 2008 RIV US eng C - Konferenční příspěvek (zahraniční konf.)
Virostko, Petr - Hubička, Zdeněk - Čada, Martin - Adámek, Petr - Kment, Štěpán - Tichý, M. - Jastrabík, Lubomír
Measuring the ion flux to the deposition substrate in the hollow Cathode plasma jet.
[Měření iontového toku na depoziční substrát u plazmové trysky s efektem duté katody.]
Plasma 2007. Melville, New York: American Instritute of Physics, 2008 - (Hartfuss, H.; Dudeck, M.; Muslelok, J.; Sadowski, M.), s. 427-430. AIP Conference Proceedings, 993. ISBN 978-0-7354-0512-7.
[International Conference on Research and Applications of Plasmas, German-Polish Conference on Plasma Diagnostics for Fusion and Laboratory /4./ and French-Polish Seminar on Thermal Plasma in Space and Laboratory /6./. Greifswald (DE), 16.10.2007-19.10.2007]
Grant CEP: GA AV ČR KAN301370701; GA MŠMT(CZ) 1M06002; GA AV ČR KAN400720701; GA ČR GA202/06/0776
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z10100522
Klíčová slova: hollow cathode * plasma jet * ion flux * deposition of thin films
Kód oboru RIV: BM - Fyzika pevných látek a magnetismus

Measurements of positive ion flux to a negatively biased substrate for deposition of TiOx thin films by the hollow cathode plasma jet system are presented. Different methods of obtaining the bias of substrate and measuring the resulting ion flux were used for different bias frequencies.

V práci jsou prezentovány měření toku kladných iontů na substrát se záporným předpětím během depozice TiOx tenkých vrstev pomocí plazmového tryskového systému s efektem duté katody. Různé metody vytváření záporného předpětí substrátu a měření výsledného iontového toku byly porovnány pro různé frekvence napětí na substrátu.
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0160694