Počet záznamů: 1  

Nástřikový materiál pro žárové a plazmové nanášení

  1. 1.
    0178374 - UFP-V 950900 CZ cze P - Patentový dokument
    Neufuss, Karel - Šrein, L. - Šafařík, J. - Šlehofer, P. - Kolomazník, M.
    Nástřikový materiál pro žárové a plazmové nanášení.
    [Coating material for thermal and plasma deposition.]
    Praha: ÚFP AV ČR, 1995. Vlastník: Ústav fyziky plazmatu AVČR. Datum udělení patentu: 10.07.1995. 7. Číslo patentu: 280003. P 280003. s. -
    Klíčová slova: plasma depositioncoating material
    http://spisy.upv.cz/Patents/FullDocuments/280/280003.pdf

    Nástřikový materiál pro žárové a plazmové nanášení, zejména plazmovým hořákem s vodní nebo plynovou stabilizací, určený zvláště na kovové, uhlíkové, keramické, skleněné, stavební a jiné podkladové materiály, jakož i k výrobě samonosných konstrukčních prvků, který sestává z přírodních křemičitanů granátového typu obecného vzorce I R23+R32+(SiOub.4)ub.3, (I) kde R2+ jsou dvojmocné ionty hořčíku, železa, manganu, vápníku a R3+ jsou trojmocné ionty hliníku, železa, chromu, vanadu a čtyřmocný iont titanu o granulometrii menší než 0,4 mm obsahující případné příměsi doprovodných minerálů do 20% hmot.

    The feed material for thermal and plasma deposition, in particular a plasma torch with gas or water stabilization, particularly intended for metal, carbon, ceramic, glass, building materials and other substrates, as well as the manufacture of self-supporting construction elements, which consists of natural silicates grenade-type formula I R23 + R32 + (SiOub.4) ub.3, (I) wherein R2 + divalent ions are magnesium, iron, manganese, calcium and R3 + is the trivalent ions of aluminum, iron, chromium, vanadium and tetravalent titanium ions on granulometry less than 0, 4 mm containing any dopant accompanying minerals to 20%.
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0075251

     
     

Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.