Short-wavelength ablation of solids: pulse duration and wavelength effects

0107371 - FZU-D 20040656 RIV US eng C - Konferenční příspěvek (zahraniční konf.)
Juha, Libor - Bittner, Michal - Chvostová, Dagmar - Létal, V. - Krása, Josef - Otčenášek, Zdeněk - Kozlová, Michaela - Polan, Jiří - Präg R., Ansgar - Rus, Bedřich - Boody, F. P. - Fiedorowicz, H. - Bratnik, A. - Mikolaczyk, J. - Rakowski, R. - Kubát, Pavel - Pína, L. - Grisham, M. E. - Vaschenko, G. O. - Menoni, C. S. - Rocca, J. J.
Short-wavelength ablation of solids: pulse duration and wavelength effects.
[Ablace pevných látek krátkovlnným zářením: vliv délky impulzu a vlnové délky.]
Fourth Generation X-Ray Sources amd Optics II. Washington: SPIE, 2004 - (Bledron, S.; Eberhardt, W.; Ishikawa, T.; Tatchyn, R.), s. 95-105. Proceedings of SPIE, 5534. ISBN 0-8194-5472-9. ISSN 0277-786X.
[Fourth Generation X-Ray Sources and Optics II. Denver (US), 02.08.2004-03.08.2004]
Grant CEP: GA MŠMT LN00A100; GA MŠMT LA 055; GA MŠMT 1P04LA235; GA AV ČR IAA1010014
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z1010921
Klíčová slova: ablation * surface modification * AUV lasers * soft x-ray lasers * laser-induced plasmas * gas-puf target
Kód oboru RIV: BH - Optika, masery a lasery

For conventional wavelength (UV-Vis-IR) lasers delivering radiation energy to the surface of materials, ablation thresholds, ablation (etch) rates, and the quality of ablated structures often differ dramatically between short (typically nanosecond) and ultrashort (typically femtosecond) pulses. Various short-wavelength (lambda<100 nm) lasers emitting pulses with durations ranging from ?10 fs to ?1 ns have recently been put into a routine operation

Ozařujeme-li povrch materiálu zářením běžných (UF-viď-IČ) laserů, závisí ablační práh a účinnost stejně jako kvalita ablaovaných povrchů na tom, zda byly použity krátké (typicky nanosekundové) či ultrakrátké (typicky femtosekundové) impulzy. Nedávno bylo uvedeno do provozu několik krátkovlnných laserů (lambda<100 nm) poskytujících pulzy délek od desítek femtosekund do nanosekund, které nám umožňují prozkoumat tuto závislost i v XUV spektrálním oboru
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0014535