Gas-Phase Formation of SiSe in IR Laser-Co-Decomposition of Dimethyl Selenide and 1,3-Disilacyclobutane

0091347 - UCHP-M 20070198 RIV NL eng J - Článek v odborném periodiku
Díaz, L. - Santos, M. - Pola, Josef
Gas-Phase Formation of SiSe in IR Laser-Co-Decomposition of Dimethyl Selenide and 1,3-Disilacyclobutane.
[Tvorba SiSe při IČ laserově iniciovaném ko-rozkladu dimethyl selenidu a 1,3-disilacyklobutanu v plynné fázi.]
Journal of Organometallic Chemistry. Roč. 692, č. 18 (2007), s. 3841-3845. ISSN 0022-328X. E-ISSN 1872-8561
Grant CEP: GA MŠMT(CZ) ME 846
Grant ostatní: MCyT(ES) BQU2003/08531/C02/02
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z40720504
Zdroj financování: O - operační programy
Klíčová slova: laser pyrolysis * silicon selenide * dimethyl selenide
Kód oboru RIV: CF - Fyzikální chemie a teoretická chemie
Impakt faktor: 2.168, rok: 2007

A LIF excitation spectrum of SiSe obtained upon IR laser irradiation of gaseous mixture of 1,3-disilacyclobutane and dimethyl selenide reveals that the previously reported infrared multiple photon co-decomposition of both compounds involves formation of SiSe. The SiSe formation is explained in terms of dehydrogenation of H2SiSe and elimination of RSeH from RHSiSe2 species (R=CH3, H).

LIF excitační spektrum SiSe získané při IČ laserově iniciovaném ko-rozkladu dimethyl selenidu a 1,3-disilacyklobutanu v plynné fázi je důkazem, že dříve popsaný ko-rozklad obou sloučenin zahrnuje tvorbu SiSe. Tato reakce je vysvětlena pomocí dehydrogenace H2SiSe a eliminace RSeH z RHSiSe2 (R=CH3,H).
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0151954