X-ray laser interference microscopy for advanced studies of laser-induced damages

0090020 - FZÚ 2008 RIV NL eng C - Konferenční příspěvek (zahraniční konf.)
Jamelot, G. - Ros, D. - Rus, Bedřich - Kozlová, Michaela - Cassou, K. - Kazamias, S. - Klisnick, A. - Mocek, Tomáš - Homer, Pavel - Polan, Jiří - Stupka, Michal
X-ray laser interference microscopy for advanced studies of laser-induced damages.
[Interferenční mikroskopie s rtg. laserem pro pokročilé studium poškozování optických povrchů.]
X-Ray lasers 2006. Dordrecht: Springer-Verlag, 2007 - (Nickles, P.; Janulewicz, K.), s. 571-576. Springer proceedings in physics, 115. ISBN 978-1-4020-6017-5. ISSN 0930-8989.
[International Conference on X-ray Lasers/10./ – ICXRL 2006. Berlin (DE), 21.08.2006-25.08.2006]
Grant CEP: GA ČR GA202/05/2316; GA MŠMT(CZ) LC528
GRANT EU: European Commission(XE) HPMT-CT-2001-00263; European Commission(XE) 506350 - LASERLAB-EUROPE
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z10100523
Klíčová slova: x-ray laser * x-ray interferometry * x-ray microscopy * laser-induced optical damage
Kód oboru RIV: BH - Optika, masery a lasery

We show result obtained using XUV interference microscopy to observe in situ nanometer-scale modifications of optical surfaces exposed to intense sub-ns laser pulses.

Představujeme výsledky experimentu s rentgenovým laserem zaměřeného na studium jevů, k nimž dochází při vzniku laserem indukovaného poškození optických materiálů. Byla vyvinuta a otestována nová technika rtg. interferometrické mikroskopie s nanometrovým rozlišením.
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0151046