Počet záznamů: 1
Recent progress in mesostructured materials
- 1.0088024 - ÚFCH JH 2008 RIV NL eng M - Část monografie knihy
Fattakhova Rohlfing, D. - Wark, M. - Rathouský, Jiří
Optimization of the silylation procedure of thin mesoporous SiO2 films with cationic trimethylaminopropylammonium groups.
[Optimalizace silylační procedury pro tenké mesoporézní filmy SiO2 s kationickými trimethylaminopropylamoniovými skupinami.]
Recent progress in mesostructured materials. Amsterdam: Elsevier B.V./Ltd, 2007 - (Zhao, D.; Qiu, S.; Tang, Y.; Yu, C.), s. 573-577. Studies in surface science and catalysis, Vol. 169. ISBN 978-0-444-53084-4
Grant CEP: GA MŠMT 1M0577
Grant ostatní: DFG(DE) WA 1116/10; DFG(DE) 436 TSE/130/46/0-1; DAAD(DE) D/04/25758
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z40400503
Zdroj financování: R - rámcový projekt EK ; R - rámcový projekt EK ; R - rámcový projekt EK
Klíčová slova: SiO2 * cationic trimethylaminopropylammonium groups * mesoporous silicas
Kód oboru RIV: CF - Fyzikální chemie a teoretická chemie
Mesoporous silicas are excellent hosts for incorporation of various guest molecules. The properties of the relatively inert silica surface can be drastically changes by the covalent grafting of functional groups, such as thiol-, amino- or alkylammonium ones, by silylation with chloro- or alkoxysilanes. While the silylation procedure has been optimized for powdered mesoporous silica materials with differing porosity, it has not been developed for mesoporous silica thin films yet, even if the obvious differences in diffusion properties and pore accessibility of powders and films would imply the different conditions needed for their silylation. Recently we have faced a serious problem of poor reproducibility of silylation procedure of silica films when investigating their applicability as a matrix for anchoring electrochemically active species and dye molecules. Therefore, the optimization of their silylation procedure has been aimed at in this communication.
Vývoj postsyntetické silylační procedury pro tenké mesoporézní filmy SiO2 s kationickými trimethylaminopropylamoniovými skupinami, zaměřený na účinnou a reprodukovatelnou inkorporaci anionických molekul, jasně ukázal rozdílnou silylační reaktivitu filmů a práškových mesoporézních materiálů. Hlavní rozdíl je v případě filmů způsoben omezenou dostupností povrchu siliky pro silylační činidlo, což má za následek tendenci k blokování pórů pro delší reakční časy. Nízká koncentrace silylačního činidla a krátké reakční časy jsou proto nutnou podmínkou pro reprodukovatelnou silylaci tenkých mesoporézních filmů. Dále krátká aktivace povrchu v mírně alkalickém roztoku umožňuje dosáhnout optimální silylační efektivity.
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0149703
Počet záznamů: 1