Application of laser plasma soft x-ray and EUV sources in micro- and nanotechnology

0086264 - FZÚ 2008 RIV US eng C - Konferenční příspěvek (zahraniční konf.)
Fiedorowicz, H. - Bartnik, A.S. - Jakubczak, K. - Jarocki, R. - Juha, Libor - Kostecki, J. - Pina, L. - Rakowski, R. - Szczurek, M.
Application of laser plasma soft x-ray and EUV sources in micro- and nanotechnology.
[Využití laserového plazmatu jako zdroje měkkého rentgenového a EUV záření v mikro- a nano-technologii.]
Proceedings of the International Conference on Laser Technology VIII: Applications of Lasers. Bellingham: SPIE, 2007 - (Wolinski, W.; Jankiewicz, Z.; Romaniuk, R.), s. 1-8. Proceedings of SPIE, Laser Technology, 6598. ISBN 978-0-8194-6734-8.
[International Conference on Laser Technology:Applications of Lasers /8./. Szczecin-Swinoujscie (PL), 25.09.2006-26.09.2006]
Grant CEP: GA MŠMT(CZ) LC528; GA MŠMT LC510; GA MŠMT 1P04LA235; GA AV ČR KAN300100702
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z10100523
Klíčová slova: materials processing * nano-patterning * laser-produced plasma * soft X-rays * ablation * organic polymers * micro-patterning * EUV radiation
Kód oboru RIV: BH - Optika, masery a lasery

Results on micro- and nanoprocessing of organic polymers using X-rays and extreme ultraviolet (EUV) generated from laser-plasma radiation sources are presented in the paper. The sources used in the studies are based on the gas puff target approach developed at the Institute of Optoelectronics, Warsaw

Prezentujeme výsledky experimentů zaměřených na mikro- a nano-opracování organických polymerů pomocí rentgenového a extrémního ultrafialovového záření (EUV) emitovaného laserovým plazmatem. Zdroje využité k tomuto účelu byly realizovány v pulzních plynovým terčích vyvinutých v Institute of Optoelectronics ve Varšavě
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0148579