Low Pressure RF Plasma Jet Sputtering Technique Applied to Ferroelectric Films:Ba.sub.1-x./sub.Sr.sub.x./sub.TiO.sub.3./sub..

0053829 - FZÚ 2007 RIV CH eng J - Článek v odborném periodiku
Deyneka, Alexander - Hubička, Zdeněk - Trepakov, Vladimír - Suchaneck, G. - Jastrabík, Lubomír - Gerlach, G. - Pokorný, Jan - Chvostová, Dagmar - Olejníček, Jiří
Low Pressure RF Plasma Jet Sputtering Technique Applied to Ferroelectric Films:Ba_1-xSr_xTiO₃.
[Příprava feroelektrických vrstev typu Ba_1-xSr_xTiO₃ pomocí naprašovací metody s nízkotlakou RF plazmatickou tryskou.]
Materials Science Forum. 514-516, - (2006), s. 163-169. ISSN 0255-5476
Grant CEP: GA AV ČR KJB1010302
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z10100521; CEZ:AV0Z10100520
Klíčová slova: low pressure plasma-jet * BST ferroelectric films
Kód oboru RIV: BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
Impakt faktor: 0.399, rok: 2005

Technology aspects and characterization of Ba_1-xSr_xTiO₃films fabicated with low pressure plasma jet technique are presented.Hysteresis loops, spectral ellipsometric and micro-Raman investigation results are presented and discussed

Jsou prezentovány technologické aspekty přípravy a charakterizace vrstev Ba_1-xSr_xTiO₃deponovaných pomocí naprašovací metody s nízkotlakou RF plazmatickou tryskou. Jsou diskutovány výsledky měření hysterézních smyček ,spektrální elipsometrie a výsledky měření mikro-ramanových spekter připravovaných vrstev
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0141993