Reliéfní struktury připravené pomocí elektronové litografie

0050997 - ÚPT 2007 cze K - Konferenční příspěvek (tuzemská konf.)
Urbánek, Michal
Reliéfní struktury připravené pomocí elektronové litografie.
[Relief structures prepared by electron beam lithography.]
PDS 2006 - Sborník prací doktorandů oboru Elektronová optika. Brno: ÚPT AV ČR, 2006, s. 51-54. ISBN 80-239-7957-4.
[PDS 2006. Brno (CZ), 19.12.2006]
Grant CEP: GA ČR GA102/05/2325
Klíčová slova: electron beam lithography * AFM
Kód oboru RIV: JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika

Text se zabývá využitím zařízení AFM PNI pro analýzu vzorků připravených především metodou elektronové litografie ale také současně analýzou vzorků připravených pomocí jiných metod (leštění, naprašování, rytí).

The text is concerned on using AFM instrument for analysis of structures prepared by electron beam lithography and analysis of samples prepared by sputtering, polishing as well.
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0140999