Coulomb Interaction in Ion and Electron Beams

0049021 - ÚPT 2007 RIV CZ eng C - Konferenční příspěvek (zahraniční konf.)
Radlička, Tomáš
Coulomb Interaction in Ion and Electron Beams.
[Coulombovské interakce v iontových a elektronových svazcích.]
Proceedings of the 10th International Seminar on Recent Trends in Charged Particle Optics and Surface Physics Instrumentation. Brno: ISI AS CR, 2006 - (Müllerová, I.), s. 61-62. ISBN 80-239-6285-X.
[Recent Trends in Charged Particle Optics and Surface Physics Instrumentation /10./. Skalský dvůr (CZ), 22.05.2006-26.05.2006]
Grant CEP: GA ČR GA102/05/2325
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z20650511
Klíčová slova: Coulomb interaction * LMIS * lithography
Kód oboru RIV: JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika

The article describes the approach and results of simulation of Coulomb interactions in ion and electron beams. The description of the ion beam in the vicinity of LMIS is presented including the effect on the energy and spatial distribution. The electron beam lithography is the second described system. We were interested in the effect of the coulomb interactions on the focusing of the beam.

Článek popisuje postup a výsledky při simulaci Coulombovských interakcí v iontových a elektronových svazcích. Je zde popsáno chování iontového svazku v bezprostřední blízkosti LMIS, vliv Coulombovských interakcí na jeho energiové a prostorové rozložení. Jako druhý systém je popsán elektronový litograf a vliv Colombovských interakcí na možnosti fokusace svazku.
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0139518