Advanced optical damage studies using x-ray laser interferometric microscopy

0025880 - FZÚ 2006 RIV US eng C - Konferenční příspěvek (zahraniční konf.)
Rus, Bedřich - Jamelot, G. - Bercegol, H. - Kozlová, Michaela - Mocek, Tomáš - Homer, Pavel - Polan, Jiří - Stupka, Michal - Cassou, K. - Kazamias, S. - Klisnick, A. - Ros, D. - Danson, C. - Hawkes, S.
Advanced optical damage studies using x-ray laser interferometric microscopy.
[Pokročilé studium poškozování optických povrchů s použitím interferometrické mikroskopie a rentgenového laseru.]
Soft X-Ray Lasers and Applications /6./. Bellingham: SPIE, 2005 - (Fill, E.), s. 146-154. Proceedings of SPIE, 5919. ISBN 0-8194-5924-0. ISSN 0277-786X.
[Soft X-Ray Lasers and Applications /6./. San Diego (US), 01.08.2005-02.08.2005]
Grant CEP: GA MŠMT(CZ) LC528; GA ČR(CZ) GA202/05/2316
GRANT EU: European Commission(XE) 506350 - LASERLAB-EUROPE; European Commission(XE) HPMT-CT-2001-00263
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z10100523
Klíčová slova: X-ray laser * XUV interferometry * XUV microscopy * laser-induced optical damage * fused silica
Kód oboru RIV: BH - Optika, masery a lasery

We present early results of an application of X-ray laser, aimed at understanding the effects involved in formation of laser-induced damage in optical materials exposed to sub-ns laser pulses. For the purpose of the experiment, a novel interferometric microscopy technique was designed and tested.

Představujeme výsledky pilotního experimentu s rentgenovým laserem zaměřeného na studium jevů k nimž dochází při vzniku laserem indukovaného poškození optických materiálů po ozáření sub-nanosekundovým laserem. Byla vyvinuta a otestována nová technika interferometrické mikroskopie.
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0116209