Radiation damages to amorphous-carbon optical coatings

0025759 - FZÚ 2006 RIV US eng C - Konferenční příspěvek (zahraniční konf.)
Juha, Libor - Bittner, Michal - De Grazia, M. - Feldhaus, J. - Gaudin, J. - Guizard, S. - Jacobi, S. - Kozlová, Michaela - Krása, Josef - Krzywinski, J. - Merdji, H. - Michaelsen, C. - Mocek, Tomáš - Nietubyc, R. - Jurek, M. - Polan, Jiří - Präg R., Ansgar - Rus, Bedřich - Sobierajski, R. - Steeg-Keitel, B. - Störmer, M. - Stupka, Michal - Vorlíček, Vladimír - Wiesmann, J. - Wild, J.
Radiation damages to amorphous-carbon optical coatings.
[Radiační poškozování optických povrchů na bázi amorfního uhlíku.]
Fourth Generation X-Ray Sources and Optics /3./ $v 59170F/1-59170F/5. Bellingham: SPIE, 2005 - (Tatchyn, R.; Biedron, S.), s. 91-96. Proceedings of SPIE, 5917. ISBN 0-8194-5973-9. ISSN 0277-786X.
[Fourth Generation X-Ray Sources and Optics /3./. San Diego (US), 03.08.2005-04.08.2005]
Grant CEP: GA MŠMT(CZ) LC510; GA MŠMT(CZ) LC528; GA MŠMT(CZ) 1P04LA235
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z10100523
Klíčová slova: amorphous carbon * radiation damage * XUV radiation * soft x-rays * free-electron laser * short-wavelenght laser * high-order harmonics * atomic force microscopy
Kód oboru RIV: BH - Optika, masery a lasery

The multi-mJ, 21-nm soft-x-ray laser at the PALS facility was focused on the surface of amorphous carbon (a-C) coating, developed for heavily loaded XUV/x-ray optical elements. AFM (Atomic Force Microscopy) images show 3-micrometer expansion of the irradiated material.

Multi-milijoulový rentgenový laser na 21 nm vyvinutý v laboratoři PALS byl zfokusován na povrchovou vrstvu amorfního uhlíku jež byl vyvinut pro optické elementy vystavované intenzivnímu rentgenovému záření. Obrázky z AFM mikroskopu ukazují 3-mikronovou expanzi ozářeného materiálu.
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0116118