Ba.sub.x./sub. Sr.sub.1-x./sub.TiO.sub.3./sub. Thin Films Deposited by RF Hollow Cathode Plasma Jet Technique

0023637 - FZÚ 2006 RIV GB eng J - Článek v odborném periodiku
Hubička, Zdeněk - Olejníček, Jiří - Čada, Martin - Virostko, Petr - Šíchová, Hana - Deyneka, Alexander - Jastrabík, Lubomír - Chvostová, Dagmar - Šícha, Miloš
Ba_x Sr_1-xTiO₃ Thin Films Deposited by RF Hollow Cathode Plasma Jet Technique.
[Depozice Ba_x Sr_1-xTiO₃ tenkých vrstev pomocí RF výboje v duté katodě.]
Ferroelectrics. Roč. 317, - (2005), s. 1-5. ISSN 0015-0193. E-ISSN 1563-5112
Grant CEP: GA AV ČR(CZ) KJB1010302; GA AV ČR(CZ) KJB1010301
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z10100522
Klíčová slova: ferroelectric thin films * hollow catode * emission spectroscopy * ellipsometry
Kód oboru RIV: BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Impakt faktor: 0.459, rok: 2005

The RF modulated plasma jet system was used for the deposition of Ba_x Sr_1-xTiO₃ (BST), and SrTiO₃ (STO) thin films on Si and multi-layer system Si/SiO₂/TiO₂/Pt substrates. BSTO and STO thin films were analyzed by X-ray diffraction. During deposition, the substrate was heated at 500 oC . Emission spectroscopy of the plasma was used for control of concentration of sputtered particles from the hollow cathode mainly Sr and Ba atoms. XRD diffraction confirmed presence of BSTO and STO perovskite phase in the films.

Článek se zabývá depozicí Ba_x Sr_1-xTiO₃ (BST) a SrTiO₃ (STO) tenkých vrstev na Si a vícevrstvé Si/SiO₂/TiO₂/Pt substráty. Tenké vrstvy BSTO a STO byly analyzovány pomocí rentgenové difrakce. Teplota substrátu během depozice byla 500 °C. Rozprašované částice Ba a Sr byly v průběhu depozice kontrolovány pomocí optické emisní spektroskopie. Analýza vrstev pomocí XRD potvrdila přítomnost BSTO a STO ve fázi v perovskitu
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0112249