Počet záznamů: 1  

Nanoparticles Personal Exposure Measurement Using a Novel Active Personal Nanoparticle Sampler During Machining and Weldind of Nanomaterials.

  1. 1.
    SYSNO ASEP0510720
    Druh ASEPC - Konferenční příspěvek (mezinárodní konf.)
    Zařazení RIVD - Článek ve sborníku
    NázevNanoparticles Personal Exposure Measurement Using a Novel Active Personal Nanoparticle Sampler During Machining and Weldind of Nanomaterials.
    Tvůrce(i) Ondráčková, Lucie (UCHP-M) RID, ORCID, SAI
    Vlčková, Lucia (UCHP-M)
    Ondráček, Jakub (UCHP-M) RID, ORCID, SAI
    Schwarz, Jaroslav (UCHP-M) RID, ORCID, SAI
    Ždímal, Vladimír (UCHP-M) RID, ORCID, SAI
    Zdroj.dok.Sborník XX. výroční konference České aerosolové společnosti, pp.. - Praha : Česká aerosolová společnost, 2019 - ISBN 978-80-270-6416-8
    Rozsah strans. 100-101
    Poč.str.2 s.
    Forma vydáníTištěná - P
    AkceVýroční konference České aerosolové společnosti /20./
    Datum konání30.10.2019 - 01.11.2019
    Místo konáníVelké Bílovice
    ZeměCZ - Česká republika
    Typ akceEUR
    Jazyk dok.eng - angličtina
    Země vyd.CZ - Česká republika
    Klíč. slovapersonal nanoparticle sampler (PENS) ; workplace exposure ; mass concentration
    Vědní obor RIVDN - Vliv životního prostředí na zdraví
    Obor OECDPublic and environmental health
    CEPGA18-02079S GA ČR - Grantová agentura ČR
    Institucionální podporaUCHP-M - RVO:67985858
    AnotaceDevelopment of nanotechnology has grown very rapidly in past decades. Therefore, it has become increasingly important to monitor the exposure of workers in nanoparticle-based manufacturing operations. In order to determine real personal exposure, it is advisable to take a sample within the worker’s breathing zone. To perform this task, there is not much of a choice yet, since experimental methods are still under development. Recently, a novel active personal nanoparticle sampler (PENS) has been developed, collecting both respirable mass fraction (RPM) and nanoparticles (NPs) simultaneously.
    PracovištěÚstav chemických procesů
    KontaktEva Jirsová, jirsova@icpf.cas.cz, Tel.: 220 390 227
    Rok sběru2020
    Elektronická adresahttp://hdl.handle.net/11104/0301122
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.