Number of the records: 1
Reaktivní HiPIMS depoziční systém optimalizovaný pro tenké optické vrstvy
- 1.
SYSNO 0499948 Title Reaktivní HiPIMS depoziční systém optimalizovaný pro tenké optické vrstvy Title Reactive HiPIMS deposition system optimised for optical thin films Author(s) Hubička, Zdeněk (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Čada, Martin (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Olejníček, Jiří (FZU-D) RID, ORCID
Kšírová, Petra (FZU-D) RID, ORCID
Straňák, Vítězslav (FZU-D) RID, ORCID
Adámek, Petr (FZU-D) RID, ORCID
Tvarog, Drahoslav (FZU-D) ORCIDIssue data 2018 Subspecies Functional Specimen Int.Code FVG1/FZU/2018 Technical parameters Mezní tlak plazmového reaktoru: 5 10-8 mbar, maximální střední výkon na jeden magnetron: 1000 W, rozměry terčů magnetronů: 50 mm, maximální výkon do ICP elektrody: 400 W, maximální DC magnetické pole Economic parameters Laboratorní zařízení nezbytné pro další aplikovaný výzkum Owner Name Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i., Oddělení optických a biofyzikálních systémů Internal identification code of the product assigned by its creator, Regulation no., FVG1/FZU/2018 Document Type Prototyp, metodika, f.vzorek, aut.software, apl.výzkum-normy, u.vzor Grant FV20580 GA MPO - Ministry of Industry and Trade (MPO) Institutional support FZU-D - RVO:68378271 Language cze Country CZ Keywords sputtering * thin films * plasma * deposition * hollow cathode Permanent Link http://hdl.handle.net/11104/0292132
Number of the records: 1