Number of the records: 1  

Reaktivní HiPIMS depoziční systém optimalizovaný pro tenké optické vrstvy

  1. 1.
    0499948 - FZU-D 2019 RIV CZ cze L - Prototype, f. module
    Hubička, Zdeněk - Čada, Martin - Olejníček, Jiří - Kšírová, Petra - Straňák, Vítězslav - Adámek, Petr - Tvarog, Drahoslav
    Reaktivní HiPIMS depoziční systém optimalizovaný pro tenké optické vrstvy.
    [Reactive HiPIMS deposition system optimised for optical thin films.]
    Internal code: FVG1/FZU/2018 ; 2018
    Technical parameters: Mezní tlak plazmového reaktoru: 5 10-8 mbar, maximální střední výkon na jeden magnetron: 1000 W, rozměry terčů magnetronů: 50 mm, maximální výkon do ICP elektrody: 400 W, maximální DC magnetické pole
    Economic parameters: Laboratorní zařízení nezbytné pro další aplikovaný výzkum
    R&D Projects: GA MPO FV10312
    Institutional support: RVO:68378271
    Keywords : sputtering * thin films * plasma * deposition * hollow cathode
    Subject RIV: BL - Plasma and Gas Discharge Physics
    OBOR OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)

    HiPIMS reaktivní systém se dvěma magnetrony a ICP RF rezonanční elektrodou byl realizován pro depozice optických polovodivých vrstev na plošné optické struktury

    HiPIMS reactive system with two magnetrons and ICP RF resonance electrode was realized for the deposition of optical semiconductor thin films on the surface optical structures.
    Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0292132