Number of the records: 1
Lineární diagnostický systém plazmové depozice pro velkoplošné procesy
- 1.
SYSNO ASEP 0390204 Document Type L - Prototype, Functional Specimen R&D Document Type Prototype, Functional Specimen RIV Subspecies Functional Specimen Title Lineární diagnostický systém plazmové depozice pro velkoplošné procesy Title Linear diagnostic system of plasma deposition for large scale processes Author(s) Hubička, Zdeněk (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Čada, Martin (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Kšírová, Petra (FZU-D) RID, ORCID
Šmíd, Jiří (FZU-D)
Olejníček, Jiří (FZU-D) RID, ORCID
Kment, Štěpán (FZU-D) RID, ORCIDYear of issue 2012 Int.Code FS3/FZÚ/2012 Technical parameters Typ termočlánku kalorimetrické sondy-K. Základní frekvence QCM senzoru 5000,00 kHz. Frekvenční rozsah pulzního napětí pro měření iontového toku 50-400 kHz. Frekvence RF zdroje harmonického napětí pro měření iontového toku 1 MHz Funkční vzorek byl vytvořen v rámci řešení projektu TAČR TA01011740. Hlavním řešitelem projektu je firma SVCS (která má smlouvu s TAČR c. 20110108) a FZU je spoluřešitelem. Mezi FZU a SVCS je podepsána Smlouva o spolupráci, upravující podmínky spolupráce při přípravě a řešení Projektu a využití výsledků výzkumu, která je nutnou součástí řešení projektu. Odpovědným řešitelem za FZÚ je Dr. Kromka. Cislo dokumentace (i pro TACR) i inventarni cislo je totozne s internim kodem: FS3/FZÚ/2012 Economic parameters V rámci projektu TAČR byl vytvořen měřící diagnostický systém pro velkoplošné depoziční techniky. Tento systém bude součástí realizovaného vícetryskového depozičního MW systému. Owner Name Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. Registration Number of the result owner 68378271 Applied result category by the cost of its creation A - Vyčerpaná část nákladů <= 5 mil. Kč Use by another entity A - Pro využití výsledku jiným subjektem je vždy nutné nabytí licence License fee fee A - Poskytovatel licence požaduje licenční poplatek Internal identification code of the product assigned by its creator, Regulation no., Smlouva o spolupráci mezi SVCS Process Inovation s.r.o. a FZU AV ČR ze dne 14.2.2011 Language cze - Czech Country CZ - Czech Republic Keywords heating flux ; plasma ; ion flux ; deposition ; thin films ; deposition rate Subject RIV BL - Plasma and Gas Discharge Physics R&D Projects TA01011740 GA TA ČR - Technology Agency of the Czech Republic (TA ČR) CEZ AV0Z10100522 - FZU-D (2005-2011) Annotation Byl realizován lineární měřící systém depozičního plazmového procesu pro velkoplošné procesy. Ten umožnil měřit prostorovou distribuci tepelného toku, iontového toku a depoziční rychlosti Description in English Linear diagnostic system of the plasma deposition process for large scale depositions was developed. This system is capable to measure spatial distribution of heating flux, ion flux and deposition rate. Workplace Institute of Physics Contact Kristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579 Year of Publishing 2013
Number of the records: 1