Number of the records: 1  

Aparatura pro měření toků neutrálních a ionizovaných částic na substrát v nízkoteplotním plazmatu

  1. SYS0424549
    LBL
      
    02567^^^^^2200361^^^450
    005
      
    20240103203831.8
    100
      
    $a 20140312d m y slo 03 ba
    101
    0-
    $a cze
    102
      
    $a CZ
    200
    1-
    $a Aparatura pro měření toků neutrálních a ionizovaných částic na substrát v nízkoteplotním plazmatu
    210
      
    $d 2013
    541
    1-
    $a An apparatus for neutral and ion flux measurement on substrate in a low-temperature plasma $z eng
    610
    0-
    $a deposition rate
    610
    0-
    $a neutral/ion flux ratio
    610
    0-
    $a magnetic field
    610
    0-
    $a QCM sensor
    700
    -1
    $3 cav_un_auth*0100245 $a Hubička $b Zdeněk $i Vlnové a částicové šíření světla, optické technologie a materiály $j Wave and corpuscular light propagation, optical technologies and materials $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0100168 $a Čada $b Martin $i Vlnové a částicové šíření světla, optické technologie a materiály $j Wave and corpuscular light propagation, optical technologies and materials $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0236881 $a Adámek $b Petr $i Vlnové a částicové šíření světla, optické technologie a materiály $j Wave and corpuscular light propagation, optical technologies and materials $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0234460 $a Kment $b Štěpán $i Vlnové a částicové šíření světla, optické technologie a materiály $j Wave and corpuscular light propagation, optical technologies and materials $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0098251 $a Olejníček $b Jiří $i Vlnové a částicové šíření světla, optické technologie a materiály $j Wave and corpuscular light propagation, optical technologies and materials $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
Number of the records: 1  

  This site uses cookies to make them easier to browse. Learn more about how we use cookies.