0536218 - ÚPT 2021 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Krátký, Stanislav - Kolařík, Vladimír - Fořt, Tomáš - Chlumská, Jana - Úlehla, L. - Moťka, L.
Speciální fotomaska pro měření zkreslení rekonstrukce obrazu.
[Special photomask for image distortion measurement of projection optics.]
Interní kód: APL-2020-04 ; 2020
Technické parametry: Motiv kovové masky obsahuje matici přesně velikých čtvercových útvarů sloužících ke kontrole nastavení výrobního procesu
Ekonomické parametry: Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu, s předpokladem smluvního využití s vědeckým a ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Ing. Stanislav Krátký, kratky@isibrno.cz
Grant CEP: GA TA ČR(CZ) TN01000008
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: e–beam lithography * reactive ion etching
Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)

Speciálně navržená fotomaska vyrobená elektronovou litografií poskytuje cenný nástroj pro ultra přesné měření zkreslení obrazu v čočkové sestavě optické litografie. Maska je nezbytnou součástí nastavení měření projekční čočky.

Specially designed photomask produced by an electron lithography provides a valuable tool for ultra precision measurement of lithography lens image distortion. The mask is an essential part of a projection lens measuring setup.
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0314036