Difrakční obrazové zařízení s motivem 100 let Republiky

0497901 - ÚPT 2019 RIV CZ cze L - Prototype, f. module
Meluzín, Petr - Krátký, Stanislav - Kopal, Jaroslav - Kolařík, Vladimír
Difrakční obrazové zařízení s motivem 100 let Republiky.
[Diffractive image device featuring 100 years Republic.]
Internal code: APL-2018-06 ; 2018
Technical parameters: Difrakční opticky variabilní obrazové zařízení, rozměry 30 mm x 30 mm, obsahuje trojitý přepínač obrazu, kompasový efekt, doplňkové difrakční prvky a planární mikrostruktury.
Economic parameters: Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu s předpokladem smluvního využití s ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: doc. Ing. Vladimír Kolařík, Ph.D., vladimir.kolarik@isibrno.cz
R&D Projects: GA TA ČR TG03010046; GA MŠMT ED0017/01/01; GA MŠMT(CZ) LO1212; GA TA ČR TE01020233
Institutional support: RVO:68081731
Keywords : e-beam lithography * planar microstructure * diffractive device
OECD category: Optics (including laser optics and quantum optics)

Funkční vzorek opticky variabilního obrazového zařízení se skládá z několika optických prvků, každý z nich je tvořen řadou optických elementů, například difrakčních mřížek, zonálních struktur apod. Tyto prvky jsou realizovány jako reliéfní planární struktura ohýbající odražené zpravidla bílé světlo do různých vertikálních a azimutálních směrů, a vytvářející požadovaný vizuální vjem. Zařízení bylo realizováno expozicí na elektronovém litografu s Gaussovským svazkem typu Vistec EBPG5000plusES a následnými operacemi elektronové litografie. Matrice funkčního vzorku byla reprodukována galvanickými a lisovacími technikami.

Functional sample of an optically variable image device consists of several optical elements, each of which is formed by a series of optical primitives, for example diffraction gratings, zonal structures and so on. These elements are realized as a planar relief structure diffracting the reflected generally white light into different vertical and azimuth directions, and creating the desired visual perception. The device was realized by exposure on the electron beam pattern generator with Gaussian beam brand Vistec EBPG5000plusES and by related operations of electron beam lithography. The master of the functional sample was reproduced by electroplating and embossing techniques.
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0290368