Number of the records: 1
Low pressure deposition Li.sub.x./sub.Zn.sub.y./sub.O thin films by means of RF plasma jet system
- 1.0100164 - FZU-D 20040144 RIV NL eng J - Journal Article
Hubička, Zdeněk - Čada, Martin - Potůček, Zdeněk - Ptáček, Pavel - Šíchová, H. - Málková, Zuzana - Jastrabík, Lubomír - Trunda, Bohumil
Low pressure deposition LixZnyO thin films by means of RF plasma jet system.
[Nízkotlaká depozice LixZnyO tenkých vrstev pomocí vysokofrekvenčního tryskové plazmového zdroje.]
Thin Solid Films. 447-448, - (2004), s. 656-662. ISSN 0040-6090. E-ISSN 1879-2731
R&D Projects: GA AV ČR KSK2043105
Keywords : photoluminescence * emission spectroscopy * chemical composition * plasma jet * thin films * RF hollow cathode
Subject RIV: BM - Solid Matter Physics ; Magnetism
Impact factor: 1.647, year: 2004
Low pressure RF hollow cathode plasma jet system was used for deposition of LixZnyO thin films. Hollow cathode discharge was excited by either CW or pulse modulated RF power. reactive sputtering of composed hollow cathode in Ar and O2 was used for that purpose. Hexagonal structure of ZnO crystallites was identified in deposited films. Photoluminescence was studied on the deposited samples as well
Nízkotlaký vysokofrekvenční výboj v duté katodě byl použit k depozici LixZnyO tenkých vrstev. Výboj v duté katodě byl vybuzen buď v kontinuálním nebo RF pulzně modulovaném módu. Reaktivní rozprašování kompozitní trysky (duté katody) v argonu a kyslíku bylo použito k tomuto účelu. V připravených vrstvách byla nalezena hexagonální krystalická struktura ZnO. Navíc také byla studována fotoluminiscence na deponovaných vzorcích
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0007669
Number of the records: 1