Low pressure deposition Li.sub.x./sub.Zn.sub.y./sub.O thin films by means of RF plasma jet system

0100164 - FZU-D 20040144 RIV NL eng J - Journal Article
Hubička, Zdeněk - Čada, Martin - Potůček, Zdeněk - Ptáček, Pavel - Šíchová, H. - Málková, Zuzana - Jastrabík, Lubomír - Trunda, Bohumil
Low pressure deposition Li_xZn_yO thin films by means of RF plasma jet system.
[Nízkotlaká depozice Li_xZn_yO tenkých vrstev pomocí vysokofrekvenčního tryskové plazmového zdroje.]
Thin Solid Films. 447-448, - (2004), s. 656-662. ISSN 0040-6090. E-ISSN 1879-2731
R&D Projects: GA AV ČR KSK2043105
Keywords : photoluminescence * emission spectroscopy * chemical composition * plasma jet * thin films * RF hollow cathode
Subject RIV: BM - Solid Matter Physics ; Magnetism
Impact factor: 1.647, year: 2004

Low pressure RF hollow cathode plasma jet system was used for deposition of Li_xZn_yO thin films. Hollow cathode discharge was excited by either CW or pulse modulated RF power. reactive sputtering of composed hollow cathode in Ar and O₂ was used for that purpose. Hexagonal structure of ZnO crystallites was identified in deposited films. Photoluminescence was studied on the deposited samples as well

Nízkotlaký vysokofrekvenční výboj v duté katodě byl použit k depozici Li_xZn_yO tenkých vrstev. Výboj v duté katodě byl vybuzen buď v kontinuálním nebo RF pulzně modulovaném módu. Reaktivní rozprašování kompozitní trysky (duté katody) v argonu a kyslíku bylo použito k tomuto účelu. V připravených vrstvách byla nalezena hexagonální krystalická struktura ZnO. Navíc také byla studována fotoluminiscence na deponovaných vzorcích
Permanent Link: http://hdl.handle.net/11104/0007669