Počet záznamů: 1

IR Laser CVD of Nanostructured Si/Ge Alloy from Silane-Germane Mixture

  1. 1.
    0346363 - UCHP-M 2011 RIV NL eng J - Článek v odborném periodiku
    Křenek, Tomáš - Murafa, Nataliya - Bezdička, Petr - Šubrt, Jan - Pola, Josef
    IR Laser CVD of Nanostructured Si/Ge Alloy from Silane-Germane Mixture.
    Journal of Analytical and Applied Pyrolysis. Roč. 89, č. 1 (2010), s. 137-141 ISSN 0165-2370
    Grant CEP: GA MŠk LC523
    Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z40720504; CEZ:AV0Z40320502
    Klíčová slova: silane * germane * ir laser
    Kód oboru RIV: CF - Fyzikální chemie a teoretická chemie
    Impakt faktor: 2.234, rok: 2010

    IR laser-irradiation of an equimolar silane-germane mixture in Ar results in the decomposition of both compounds and allows chemical vapour deposition (CVD) of solid metastable and nanostructured Si/Ge film.
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0187411