Počet záznamů: 1

Optical emission spectroscopy of various materials irradiated by soft x-ray free-electron laser

  1. 1.
    0336007 - FZU-D 2010 RIV US eng C - Konferenční příspěvek (zahraniční konf.)
    Cihelka, Jaroslav - Juha, Libor - Chalupský, Jaromír - Rosmej, F.B. - Renner, Oldřich - Saksl, K. - Hájková, Věra - Vyšín, Luděk - Galtier, E. - Schott, R. - Khorsand, A.R. - Riley, D. - Dzelzainis, T. - Nelson, A. - Lee, R. W. - Heimann, P. - Nagler, B. - Vinko, S. - Wark, J. - Whitcher, T. - Toleikis, S. - Tschentscher, T. - Fäustlin, R. - Wabnitz, H. - Bajt, S. - Chapman, H. - Krzywinski, J. - Sobierajski, R. - Klinger, D. - Jurek, M. - Pelka, J. - Hau-Riege, S. - London, R.A. - Kuba, J. - Stojanovic, N. - Sokolowski-Tinten, K. - Gleeson, A.J. - Störmer, M. - Andreasson, J. - Hajdu, J. - Timneanu, N.
    Optical emission spectroscopy of various materials irradiated by soft x-ray free-electron laser.
    [Optická emisní spektroskopie různých materiálů ozářených rentgenovým laserem s volnými elektrony.]
    Damage to VUV, EUV, and X-ray Optics II. Bellingham: SPIE, 2009 - (Juha, L.; Bajt, S.; Sobierajski, R.), 73610P/1-73610P/10. Proceedings of SPIE, 7361. ISBN 9780819476357. ISSN 0277-786x.
    [Damage to VUV, EUV, and X-Ray Optics II. Prague (CZ), 21.04.2009-23.04.2009]
    Grant CEP: GA AV ČR KAN300100702; GA MŠk LC510; GA MŠk(CZ) LC528; GA MŠk LA08024; GA AV ČR IAA400100701
    Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z10100523
    Klíčová slova: optical emission spectroscopy * free-electron laser * atomic lines * plasma plume * warm dense matter
    Kód oboru RIV: BH - Optika, masery a lasery
    http://dx.doi.org/10.1117/12.822766

    The beam of Free-Electron Laser in Hamburg (FLASH) tuned at either 32.5 nm or 13.7 nm was focused by a grazing incidence elliptical mirror and an off-axis parabolic mirror coated by Si/Mo multilayer on 20-micron and 1-micron spot, respectively. The grazing incidence and normal incidence focusing of ~10-fs pulses carrying an energy of 10 μJ lead at the surface of various solids (Si, Al, Ti, Ta, Si3N4, BN, a-C/Si, Ni/Si, Cr/Si, Rh/Si, Ce:YAG, poly(methyl methacrylate) - PMMA, stainless steel, etc.) to an irradiance of 1013 W/cm2 and 1016 W/cm2, resp. The optical emission of the plasmas produced under these conditions was registered. Surprisingly, only lines belonging to the neutral atoms were observed at intensities around 1013 W/cm2 and 1016 W/cm2, resp. No lines of atomic ions have been identified in UV-vis spectra emitted from the plasmas formed by the FLASH beam focused in a 20-micron spot.

    Svazek laseru s volnými elektrony (FLASH naladěný na vlnové délky 32,5 nm a 13,5 nm) byl fokusován na povrch různých materiálů (Si, Al, Ti, Ta, Si3N4, BN, a-C/Si, Ni/Si, Cr/Si, Rh/Si, Ce:YAG, poly(methyl metakrylát) - PMMA, nerezová ocel, etc.) eliptickým zrcadlem resp. mimoosým parabolickým zrcadlem pokrytým Si/Mo mnohovrstvou na 20-mikronový resp. 1-mikronový fokální spot. To nám umožnilo proměřit optická emisní spektra (OES) plazmového výtrysku generovaného ze zmíněných materiálů při intenzitách 1013 W/cm2 resp. 1016 W/cm2. OE spektra jsou dominována atomárními liniemi, což je při těchto intenzitách neobvyklé. Dokazuje to volumetrický ohřev materiálu rentgenovým laserem.
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0180339